技术参数：二次电子分辨率：3.0nm（加速电压=30kV，WD=5mm高真空模式）/7.0nm（加速电压=3kV，WD=5mm高真空模式）,
背散射电子分辨率：4.0nm（加速电压=30kV，WD=5mm低真空模式）/10.0nm（加速电压=5kV，WD=5mm高真空模式）
放大倍率：5 - 300,000倍（底片倍率＊5）/7 - 800,000倍（显示器显示倍率＊6）
加速电压：0.3 - 30kV，
可变压力范围：6 - 650Pa，
最大样品尺寸：直径200mm，
样品台：X 0-100mm/ Y 0-50mm/ Z 5-65mm/ R 360°/ T -20°-90°，可观察区域：直径 130mm （旋转并用），最大样品高度 80mm（WD=10mm），马达台：5轴标配，
电子光学系统：1、电子枪 预对中的钨灯丝，2、物镜光阑 4孔可动光阑，3、探检测器 埃弗哈特 索恩利 二次电子探测器、高灵敏度半导体背散射电子检测器，4、EDX分析 WD 10mm（取出角35°），
图像显示：操作系统Windows？ 7＊7，图像显示模式 全屏模式（1,280 × 960 像素）、小屏模式（800 × 600 像素）、双图像显示（800 × 600 像素）、四屏幕显示（640 × 480像素）、信号混合模式，
排气系统：全自动排气、涡轮分子泵210升/秒 × 1、机械泵 135L/min（162L/min，60Hz）× 1